CVD(化學氣相沉積)，是半導體工業(yè)中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料、大多數(shù)金屬材料和金屬合金材料。那特氣柜是如何參與到CVD技術的生產(chǎn)過程中去的呢？

CVD(化學氣相沉積)是一種化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，從理論上來說，它是很簡單的：兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導入到一個反應室內(nèi)，然后他們相互之間發(fā)生化學反應，形成一種新的材料，沉積到晶片表面上。

因為CVD使用的原材料氣體大多是特種氣體，具有一定的危險性，所以對這些氣體使用就需要用到特氣系統(tǒng)。沉積氮化硅膜(Si3N4)就是一個很好的例子，它是由硅烷和氮反應形成的，而硅烷（SiH4）是一種在室溫下能著火、在空氣或鹵素氣體中能爆炸性燃燒的劇毒性特種氣體，所以，為保證硅烷安全使用需用到特氣柜。

沃飛WOFLY全自動特氣柜（GC）的柜體采用防腐蝕涂層，且板材厚底不得低于2.5mm，同時配有防爆觀察窗，可以隨時觀察柜內(nèi)變化；特氣柜的報警偵測警報功能齊全，并在柜門關閉情況下，特氣柜內(nèi)部都處于負壓狀態(tài)，可第一時間發(fā)現(xiàn)泄漏并阻止泄漏氣體擴散；其中包括自動吹掃、自動切換以及緊急情況下的自動安全切斷（當設定報警信號被觸發(fā)時）在內(nèi)的基本功能，也是生產(chǎn)安全和員工人身安全的有力保障。

沃飛WOFLY全自動特氣柜（GC）通過PLC面板，配合觸摸屏進行系統(tǒng)顯示和設定，從而實現(xiàn)設備安全有效的運行。其內(nèi)部PLC程式設計的安全聯(lián)鎖功能、高純閥件的合理選擇和布局，既滿足了CVD(化學氣相沉積)在生產(chǎn)過程中對氣體原材料的高純度和連續(xù)穩(wěn)定供給的要求，也確保了正常生產(chǎn)和員工人身安全。

CVD(化學氣相沉積)是傳統(tǒng)的制備薄膜的技術，應用廣泛，以上內(nèi)容就是關于CVD技術和特氣柜在CVD中所占的一席之地的簡單介紹，感謝您的閱讀，更多氣體資訊，請關注我們!